ML-NEBULA: Forschungs- und Entwicklungsausrüstung für Femtosekundenlaser-Nanostrukturen mit mehreren Strahlen
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Unterstützung von Mehrpfad- und Mehrfokus-Verbundverarbeitung;
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Mehrdimensionale Strahlformungs- und Steuerungsfunktionen;
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24/7-Strahlricht- und Qualitätsüberwachung;
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Ausgezeichnete mechanisch und thermisch stabile Anlagenbasis;
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Bearbeitungsgenauigkeit im Nano-, Submikron- und Mikrometerbereich;
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Präzisionsregelungssystem für Pulsenergie im Nanojoule-Bereich;
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Positioniergenauigkeit im Nanometerbereich;
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Präzisionsbearbeitung mit mehrachsigen Verbindungselementen.
Produkt-Highlights
Herstellung funktionaler Oberflächen-Mikro-Nanostrukturen
Optisches Wellenleiter-Direktschreiben: Herstellung von mikrofluidischen Chips
Nanoscale Line Width Grid Writing
Hochpräzise Schlitz-/Membranbearbeitung
Technische Spezifikationen
Artikel | Details | |
Laser | Femtosekundenlaser (1030/515/343 nm) | |
Verarbeitungsbereich | 500 mm × 500 mm | 30 mm × 30 mm |
Positionsgenauigkeit (X/Y/Z) | ||
Verarbeitbare Materialarten | Planare, zylindrische, sphärische, dreidimensional gekrümmte Oberflächen usw., individuell anpassbare Kombinationen | |
Verarbeitungsinhalte | Tiefengesteuertes Ätzen, kohlenstofffreies Schneiden, Durchgangslochbohren, Nanoproduktion usw. | |
Mindestlochdurchmesser | ≥500 nm, nach Bedarf anpassbar | |
Minimale verarbeitbare Linienbreite | ≥300 nm, anpassbar nach Bedarf | |
Bearbeitbarer Lochdurchmesserbereich | ≥200 nm, anpassbar nach Bedarf | |
Präzision des Lochdurchmessers | ≥±50 nm, anpassbar nach Bedarf | |
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