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ML-NEBULA: Forschungs- und Entwicklungsausrüstung für Femtosekundenlaser-Nanostrukturen mit mehreren Strahlen

Jeder wissenschaftliche Durchbruch entsteht aus der Überwindung von Grenzen. Im Bereich der Mikrometer, Submikrometer und sogar Nanometer bestimmt die Präzision der Werkzeuge die Tiefe der Forschung. MONO unterstützt Wissenschaftler und Ingenieure dabei, in der Forschung führend zu bleiben, indem modernste Femtosekundenlaser-Mikrobearbeitungstechnologie Ihre Ideen präzise in die Realität umsetzt.

ML-NEBULA ist ein Femtosekundenlaser-Nanostruktur-Forschungs- und Entwicklungsgerät, das speziell für multifunktionale und hochpräzise Forschung und Entwicklung entwickelt wurde. Es ist die ideale Wahl für wissenschaftliche Labore und Forschungszentren, die zwischen verschiedenen Aufgaben wechseln und höchste Präzision sowie flexible Lösungen benötigen. Das Gerät bietet Möglichkeiten zur Nanostrukturbearbeitung – von der Oberflächenbehandlung bis zum direkten internen Schreiben, von der Prototypenfertigung bis zur Kleinserienproduktion – alles kann mit einer einzigen Maschine realisiert werden.

❑ Herstellung funktionaler Oberflächen-Mikro-Nanostrukturen

❑ Optische Wellenleiter-Direktschreibverarbeitung

❑ Herstellung von mikrofluidischen Chips

❑ Lithographie mit nanostrukturierten Linienbreitengittern

❑ Schlitzmembran-/Öffnungsmembranverarbeitung

    Produktmerkmale

    • Industrielle, anpassbare Femtosekunden-Laserquelle (2)

      Unterstützung von Mehrpfad- und Mehrfokus-Verbundverarbeitung;

    • Mehrdimensionale Strahlformungs- und Steuerungsfähigkeiten

      Mehrdimensionale Strahlformungs- und Steuerungsfunktionen;

    • Echtzeitüberwachung von Strahlausrichtung und -qualität

      24/7-Strahlricht- und Qualitätsüberwachung;

    • Überlegene, mechanisch und thermisch stabile Basisplattform

      Ausgezeichnete mechanisch und thermisch stabile Anlagenbasis;

    • Hochdynamisches, multifunktionales Steuerungssystem

      Bearbeitungsgenauigkeit im Nano-, Submikron- und Mikrometerbereich;

    • Vollständig abgedichtetes Strahlführungs- und optisches Pfadsystem

      Präzisionsregelungssystem für Pulsenergie im Nanojoule-Bereich;

    • Koordinierte mehrachsige Präzisionsbearbeitung von 3D-Oberflächen

      Positioniergenauigkeit im Nanometerbereich;

    • Umfassendes 3D-Kollisionsvermeidungssystem

      Präzisionsbearbeitung mit mehrachsigen Verbindungselementen.

    Produkt-Highlights

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    Herstellung funktionaler Oberflächen-Mikro-Nanostrukturen

    Es dient der Entwicklung von Oberflächen-Mikro-Nanostrukturen mit speziellen optischen (z. B. Metalinsen, Polarisationskontrolle), mechanischen (z. B. superhydrophobe, selbstreinigende) und elektrischen (z. B. flexible Elektroden, Sensoren) Eigenschaften. Es unterstützt Spitzenforschung in Bereichen wie Materialwissenschaft und Grenzflächentechnik.
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    Optisches Wellenleiter-Direktschreiben: Herstellung von mikrofluidischen Chips

    Erzeugt dreidimensionale optische Pfadstrukturen in transparenten Materialien wie Glas und Kristallen. Geeignet für die Forschung und Entwicklung von photonischen integrierten Chips und optischen Fasersensoren sowie für die Präzisionsbearbeitung von Mikrokanälen, Mischern und Reaktionskammern in mikrofluidischen Systemen.
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    Nanoscale Line Width Grid Writing

    Entwickelt optische Instrumente der nächsten Generation (wie Spektrometer und Gittersensoren) sowie Datenspeichergeräte (wie nanoskalige Speichereinheiten). Realisiert die hochpräzise Herstellung von Gittern mit nanoskaliger Linienbreite und durchbricht damit die Auflösungsgrenze herkömmlicher Verarbeitungstechnologien.
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    Hochpräzise Schlitz-/Membranbearbeitung

    Bietet hochpräzise Schlitz- und Blendenkomponenten für optische Systeme (wie Lithographiemaschinen, Mikroskope) und Präzisionsinstrumente (wie Partikeldetektoren) und gewährleistet so die Leistungsstabilität und Präzisionskonstanz optischer Geräte.

    Technische Spezifikationen

    Artikel

    Details

    Laser

    Femtosekundenlaser (1030/515/343 nm)

    Verarbeitungsbereich

    500 mm × 500 mm

    30 mm × 30 mm

    Positionsgenauigkeit (X/Y/Z)

    Verarbeitbare Materialarten

    Planare, zylindrische, sphärische, dreidimensional gekrümmte Oberflächen usw., individuell anpassbare Kombinationen

    Verarbeitungsinhalte

    Tiefengesteuertes Ätzen, kohlenstofffreies Schneiden, Durchgangslochbohren, Nanoproduktion usw.
    anpassbare Kombination

    Mindestlochdurchmesser

    ≥500 nm, nach Bedarf anpassbar

    Minimale verarbeitbare Linienbreite

    ≥300 nm, anpassbar nach Bedarf

    Bearbeitbarer Lochdurchmesserbereich

    ≥200 nm, anpassbar nach Bedarf

    Präzision des Lochdurchmessers

    ≥±50 nm, anpassbar nach Bedarf

    Anwendungsbeispiele

    15-µm-Massenspektrometer-0-Taper-Schlitzschneiden

    15-µm-Massenspektrometer-0-Taper-Schlitzschneiden

    MONO-Gitter Direktbeschriftung

    MONO-Gitter-Direktschreiben: Linienbreite 0,449 μm

    Für mikrofluidische Chips (Lab-on-a-Chip) ätzt unsere ML-NEBULA-Anlage nicht nur Kanäle auf Glasoberflächen, sondern unterstützt auch das direkte Laserschreiben (

    MONO Mikrofluidik-Chip Mikrokanalätzung

    Mono Submikron-Bohrung

    Mono-Submikron-Bohrung: 148-nm-Löcher

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